고대역폭 메모리(HBM) 

 

 

 

고대역폭 메모리(HBM)

AI 애플리케이션에 필요한 방대한 양의 메모리를 제공하기 위해 칩 제조업체는 고급 DRAM 스택으로 구축된 고성능, 저지연 아키텍처인 고대역폭 메모리(HBM)로 전환했습니다. DRAM 칩의 혁신도 중요하지만, HBM의 밀도와 대역폭은 첨단 3D 패키징을 통해 실현됩니다. 어플라이드 머티어리얼즈® 는 업계의 HBM 도입 증가를 지원하는 데 필요한 재료 공학 기술 분야의 선두주자입니다.

HBM 제조 공정은 웨이퍼의 앞면과 뒷면 양쪽면을 상호 연결 할수 있는 기둥과 실리콘 관통전극(TSV)을 형성하는 등 많은 핵심 재료 엔지니어링 단계를 필요로 합니다.

어플라이드 머티어리얼즈는 더 높은 종횡비의 TSV를 구현하고 비아 트렌치 내에서 더 나은 커버리지를 제공하는 유전체 및 금속 증착 기술을 개발했습니다. 프로듀서 InVia 2 CVD 시스템은  비아 측벽의 형상에 따라 정확하고 균일하게 증착되는 유전체 라이너를 저온 증착하는 데 적합한 공정을 사용합니다. 마찬가지로, 당사의 Endura Ventura™  2 PVD 시스템은 금속 증착 제어를 강화하여 배리어 시드 층을 잘 덮을 수 있도록 하여 전기적 성능과 신뢰성을 높입니다.

TSV 외에도 마이크로 범프 필러는 HBM 스택의 전기 및 열 성능에 매우 중요합니다. 마이크로 범프의 크기와 피치를 모두 줄이는 데 상당한 혁신이 있었지만, 이러한 범프와 해당 본드 패드의 크기가 줄어들면서 접촉 저항은 기하급수적으로 증가합니다. 당사의 고유한 Volaris 전세정 기술과 업계 최고의 언더 범프 금속배선용 PVD의 조합은 접촉 저항과 기생 전력을 줄이는 동시에 범프 신뢰성 개선에 도움이 됩니다. 어플라이드 머티어리얼즈의 Nokota(ECD)와 함께 주요 고객사에서 마이크로 범프 제작을 위한 중요한 위치를 차지하고 있습니다. 

HBM 가공의 또 다른 과제는 매우 얇은 웨이퍼 조각을 적층하는 것으로, 웨이퍼 조각 뒤틀림과 휘어짐으로 인해 공정에 지장을 줄 수 있습니다. 당사의 Producer Avila PECVD 시스템은 웨이퍼 뒷면에 얇은 유전막을 저온에서 증착하여 칩 제조업체가 필름의 응력을 조절하여 뒤틀림을 제어할 수 있도록 합니다.

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