Producer^® Etch

特許取得済みのTwin Chamber^® 設計を採用したApplied Producer Etchは、 90nm以下のエッチングアプリケーションでの高い生産性を達成する、信頼性が高くコスト効率の良い生産ツールです。製造現場で実績のある非常にコンパクトなエッチャーは、最大3基までのツインチャンバを組み込むことができ、最大限のアウトプットを実現します。

またProducer Etchは、ツインチャンバと2つのFOUP (デュアル ロボット工場インターフェース) によって最高のスループット密度を提供しながら、シングルチャンバ並みの高い性能とプロセス制御を提供します。各ツインチャンバは、シングルまたはデュアル ウェーハモードで運用できます。エッチング率、エッチング率の均一性、およびレジストの選択性は、電極間のギャップを調節することによって正確に調整でき、異なるアプリケーションに対しても、プロセスの最適化が可能です。

効率の良いプラズマ閉じ込め、 in-situ 洗浄、および高純度の耐プラズマチャンバ材料によって高度な性能を発揮し、大量生産において500 RF時間以上のウェット洗浄間隔を実現します。優れたアップタイムとスループット、低いCOO（Cost of Ownership） を提供するProducer Etchは、高生産性エッチングアプリケーションに理想的な主力ツールとして活躍します。