Producer^™ Etch

应用材料公司的 Producer Etch 采用获得专利的 Twin Chamber™ 设计，是适用于 90nm 及以下节点高生产效率刻蚀应用的可靠且经济高效的生产工具。该刻蚀器经过生产验证，采用高度紧凑的设计，最多可配置三个双腔室，以最大程度提高产量。

Producer Etch 使用双腔室、双前置式晶圆传送盒 (FOUP)、双机器人工厂接口，提供最高产能密度，同时还可对单腔室性能和工艺进行控制。每个双腔室均能以单晶圆或双晶圆模式运行。刻蚀速率、刻蚀速率均匀性和光刻胶选择比，均可通过调节电极之间的间隙来进行调整，从而能够针对不同的应用来优化工艺。

刻蚀器采用高效的等离子体约束和原位清洁技术及高纯度抗等离子体腔室材料，性能表现优良，在量产环境下，可达到 500 RF 小时的平均湿法清洗时间间隔。出色的正常运行时间、产能和低拥有成本，使 Producer Etch 成为高生产效率刻蚀应用的理想主力设备。