Producer^® Etch

특허를 받은 Twin Chamber^® 설계를 적용한 Applied Producer Etch는 90nm 이하의 고생산성 식각 응용 분야를 위한 믿을 수 있고 비용 효과적인 생산 도구입니다. 생산 현장에서 검증된 이 소형 식각 장비는 최대 3개의 Twin Chamber로 구성해 처리량을 최대화할 수 있습니다.

Producer Etch는 Twin Chamber와 FOUP가 2개인 이중 로봇 팩토리 인터페이스로 최고 수준의 처리량을 제공하고 단일 챔버 작동과 공정 제어 기능을 구현합니다. 각각의 Twin Chamber는 단일 웨이퍼 또는 이중 웨이퍼 모드로 운용할 수 있습니다. 전극 사이의 갭을 조절해서 식각 속도, 식각 속도 균일도, 레지스트 선택비를 조절할 수 있기 때문에 여러 응용 분야에 맞도록 공정을 최적화할 수 있습니다.

효율적인 플라즈마 밀폐, 인시츄 세정, 고순도 플라즈마 저항 챔버 재료가 고품질의 성능을 구현하고 대량 생산 환경에서 습식 세정간 평균 시간이 500 RF 시간 이상입니다. 가동 유지 시간과 처리량이 높고 소유 비용이 낮은 Producer Etch는 고생산성 식각 응용 분야에 적합합니다.