Applied^® SigmaMeltec^® SFD Mask Develop Series

露光されたレジストパターンの正確な現像は、コート、露光、ベークにおいて、高度に制御されたプロセスを経たフォトマスクのCD均一性を保つために非常に重要です。これを達成するためには、マスク表面に均一かつ同時に現像液を供給する必要があります。現像不足を回避し、マスクパターン全体で最適なCDリニアリティを達成するためには、十分な現像液の流量が必要です。現像工程と最終洗浄工程を分離し、ウェットチャンバ内での水滴のマスク表面への再付着を防止できれば、マスク欠陥は回避できます。

SigmameltecのSFDシステムは、2基のチャンバ構成を基本として現像工程と最終洗浄工程を分離し、さらにチャンバ間のウェットマスク移動を組み合わせることで、ポスト現像洗浄と最終洗浄工程の間の乾燥を防ぎます。現像温度と流量の精確な制御は、マスク間のCD平均の安定性を確保します。平滑な側壁と倍高ゾーンプロセスを備えた広いチャンバは、マスクへの跳ね返りを防ぎ、そしてチャンバとステージ洗浄は欠陥のないマスクプロセスに必要とされる一貫した清浄性を維持します。