Applied^® SigmaMeltec^® SFB Mask Bake Series

フォトマスク製造向けに化学的に増幅されたレジストの使用には、パターン露光によって開始された化学反応を完結する、ポスト露光ベーク（PEB）ステップの厳密な制御が要求されます。最終的なパターン形状はベーク温度および時間の影響を受けます。露光のCD均一性を忠実にマスクへ転写するためには、ベーク条件において均一性かつ再現性を見極めなければなりません。ベーク段階の温度管理はCDに強く影響するため、昇温速度と降温速度とが一致していることが重要となります。

Sigmameltec’s SFBシステムは、マスク周辺の複数加熱ゾーンと微量なガス流量調整により温度を均一にするベークステージを特長に持ちます。その結果、温度の安定性のみならず、昇温速度一貫性においても、マスク上のあらゆるポイントで再現性を確保することができます。