Alta^® 4700DP Mask Writer

Alta 4700DPシステムはコストパフォーマンスの高いバイナリマスクと位相シフトマスク(PSM)のパターニングを提供し、迅速なターンアラウンドと設計サイクルの短縮を実現します。高い開口数を有する光学系とDUVレーザーが高密度の鮮明なビームを生成し、高解像度の厳密な寸法制御によるフォトマスクパターンの描画を可能にします。ステージコントロールの改善により、パターンの配置精度が向上し、セット内のマスクを正確にマッチングさせることができます。

新しい高度に統合されたソフトウェアベースのデータパスを大量の高速プロセッサで処理することにより、マスクパターンの書き込み時間が従来よりも10%～50%速くなりました。パターン形成の前処理とマスク描画を並行して行うことで、量産時のオーバーヘッド時間を短縮できます。

二次レベルのアライメントシステムは、高度なPSMの製造に求められる正確なオーバーレイを提供します。これは、ウェーハリソグラフィが限界に近づくにつれ大量に使用されます。非露光時のアライメント光は、露光と同じ光路を使用するため、ベースラインのオフセットを防止し、安定した生産性能を実現します。

Alta 4700DPは、マルチパス書き込みによりリソグラフィ品質を向上し、新しいデータパスにより、さらに微細なアドレスグリッドを実現します。4パスモードは最も要件の厳しいマスクに使用する一方、重要度が低いレイヤにはスループットの高い2パスモードを使用して書き込み時間を短縮します。組み込まれたソフトウェア機能を使用することで、パターン密度依存の誤差やプロセスフットプリントの誤差を補正し、全体的な線幅均一性を向上できます。

信頼性の高い描画エンジンと最小限のコンタクトマスク処理システムを組み合わせることにより、高い歩留まりが実現されます。また、Alta 4700DPにはSECS/GEMが標準装備されており、システムとファブホスト間の通信を可能にし、描画工程の自動化を実現します。