Alta^® 4700DP 光罩寫入機

Alta 4700DP 系統具備符合成本效益圖案化的二元光罩和相位移光罩 (PSM)，可支援快速週轉時間並縮短設計週期。高 NA 光學和 DUV 雷射能以高解析度和嚴密的線寬控制，產生寫入光罩圖案所需的清晰、聚焦的光束。改善的載物台控制能提高圖案放置的準確性，藉此精準匹配在同一組內的光罩。

可在各系列高速處理器上執行的全新、高度整合的軟體型資料路徑，能讓設備以比先前快 10% 至 50% 的速度完成光罩圖案。平行執行圖案準備與光罩列印，可縮短量產環境下的額外時間。

第二層對準系統可提供生產先進 PSM 光罩所需的緊密疊對，隨著微影製程不斷走向極限，其應用也越來越多。非曝光對準光線使用與曝光光束相同的光學路徑，避免基線偏移並確保獲得穩定的產品表現。

Alta 4700DP 採用多次寫入來強化微影製程品質，新的資料路徑可支援更精細的網格定位。4 次寫入模式用於要求最嚴苛的光罩，而高產能的 2 次寫入模式可縮短非關鍵層的寫入時間。整合的軟體功能可藉由補償圖案密度相依的錯誤與製程足跡的錯誤，來改善整體線寬的均勻度。

可靠的列印引擎結合了接觸最少的光罩處理系統，能產生非常高的良率。Alta 4700DP 上的標準配備還包括 SECS/GEM，可允許系統及晶圓廠主機之間進行通訊，並促成列印程序自動化。