Producer^™ Celera^™ PECVD

应用材料公司的 Producer Celera PECVD 系统可以沉积可调压缩和拉伸高应力氮化硅薄膜，用于 45nm 及以下节点的应变工程。

该系统将应力氮化物沉积与 UV 固化工艺相集成，可提供高达 1.7GPa 的拉伸应力，同时符合低热预算要求。 同一腔室可沉积压缩应力高达 3.5 GPa 的薄膜。 该工艺利用经过生产验证的硅烷 CVD 技术，可提供出色的阶梯覆盖 (~70%)，同时保持极佳的 SiN 刻蚀阻挡层性能和图形负载结果。

应用材料公司的 Celera 沉积和 UV 固化工艺集成于经过生产验证的高产能 Producer 平台上，具有灵活的 Twin Chamber^™ 配置以及平台可扩展性，使客户能够将 Producer 工具集应用于多个工艺节点。