Producer^® Celera^™ PECVD

應用材料 Producer Celera PECVD 系統可以沉積可調壓縮和拉伸高應力氮化矽薄膜，可運用在 45 奈米及以下技術節點的應變工程。

本系統提供整合應力氮化沉積和紫外光固化，可提供高達 1.7GPa 的伸長應力，同時符合低熱積存要求。 使用同一反應室可沉積壓縮應力高達 3.5 GPa 的薄膜。 此製程運用經過生產驗證的矽烷 CVD (化學氣相沉積) 技術，可提供極佳的階梯覆蓋 (約 70％)，同時仍能維持氮化矽 (SiN) 優良的蝕刻終止性質及圖案負載結果。

應用材料 Celera 沉積及 UV 固化製程是整合在經過生產驗證、高產量的 Producer 機台上；此機台具備靈活的 Twin Chamber^® 配置以及機台擴展性能，讓顧客能在多個製程節點利用 Producer 設備組合。