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VIISta 3000XPは定評あるバリアンのデュアルマグネット枚葉式アーキテクチャを採用し、先進の高エネルギーアプリケーションで要求される角度精度を実現しました。
65nmテクノロジーノード以降では、従来のバッチ式高エネルギー注入装置の限界により、高エネルギープロセスにおけるデバイス性能に問題が生じます。次世代デバイス製造に必要な、正確な角度制御、ドーズ量制御、生産性を達成するために、枚葉式アーキテクチャが求められています。
VIISta 3000XPはまた、中電流バックアップ用としても最適です。同システムでは、業界をリードする中電流装置であるVIISta 900XPと同様の枚葉式エンドステーション、ドーズ計測システム、ウェーハ位置決めシステムを採用しています。