VIISta^™ 3000XP

VIISta 3000XP 采用备受赞誉的维利安双磁铁单晶圆架构，可提供先进高能应用所需的角度精度。

在 65nm 以下的技术节点，传统的批量高能注入机存在局限性，在高能工艺中会带来器件性能问题。为达到下一代器件制造所需的精确角度控制、剂量控制和生产效率，需要采用单晶圆架构。VIISta 3000XP 还非常适合作为中等电流系统的备用系统。

VIISta 3000XP 还非常适合作为中等电流系统的备用系统。该系统采用与引领市场的中等电流 VIISta 900XP 相同的单晶圆端站、剂量测定系统和晶圆定位系统。