Producer^® CVD

​​化学気相成長（CVD) ​技術は半導体プロセスに不可欠であり、ロジック半導体、​DRAM​​ および​ ​NAND​ ​から、 ​​MEMS​​、フォトニクス、IoTおよびパワー半導体技術などの​ ​MtM​ ​市場セグメントに至るまで全ての半導体素子に必要な構成要素です。アプライド マテリアルズのProducerプラットフォームは、各種の薄膜開発の基礎としての役割を果たしており、各薄膜には、同様に各種の構造形状（ブランケット、埋め込み、コンフォーマル）上へ成膜するためのそれ自身固有のプロセス要件があります。

1998年に導入された150mm、200mmおよび300mmウェーハ向けProducerプラットフォームは、常に最も成功したプラットフォームの1つとして君臨し、10のノードでの主要な技術の変化を網羅しています。同プラットフォームの革新的なTwin Chamber^​​®​ アーキテクチャにより、最大6枚のウェーハの同時処理が可能で、生産性を向上します。Producerは、チャンバ洗浄にセラミックヒーターやチャンバ部品、遠隔​ ​プラズマ​ ​​ ​源​​を使用し、化学気相成長（CVD）膜の欠陥を最低にします。このプラットフォームは、Loadlock式ウェーハマッピングから、ウェーハ配置用のウェーハ向きの確認まで、各種のMtM基板（SiCウェーハを含む）を確実に注意深く取り扱うことができます。

Producer装置は、従来のPECVD（​​TEOS​​ およびシランベース酸化および窒化物）、準常圧化学気相成長（CVD）膜と同様に、Low-​k​​、​​歪みエンジニアリング​​、​​リソグラフィー可能な​ 膜、熱膜、高温PECVDアプリケーション、SiGeおよびアモルファスシリコンといった、先進のプロセスもサポートしています。MtMデバイス用途での同装置の能力のいくつかの例としては、厚膜(≥20µm)、低温プロセス(180℃から350℃)、よりコンフォーマルな薄膜、および低温PECVDシリコンゲルマニウム厚膜(<50um)や​​アモルファスシリコン​ ​が挙げられます。

Producerプラットフォームは拡張性にも優れているため、お客様は同プラットフォームのツールセットを複数のデバイスタイプやプロセスノードで活用することができます。