Producer^® CVD

CVD 기술은 반도체 공정의 핵심으로 로직, DRAM, NAND]와 같은 반도체 제품부터MEMS, 포토닉스, IoT 및 전력 소자 기술과 같은MtM (More than Moore, 모어 댄 무어) 시장에 필요한 핵심 기술입니다. Applied Producer 플랫폼은 광범위한 박막 제품개발의 토대가 되었습니다. 이러한 박막들은 다양한 기하학적 구조(평판, 갭필, 정합)에 증착되기 위해 각각 고유한 일련의 공정 조건을 가지고 있습니다.

1998년에 선보인 150mm, 200mm 및 300mm 웨이퍼용 Producer 플랫폼은 10개 노드의 핵심 기술 발전을 통해 역대 가장 성공적인 플랫폼 중 하나로 자리매김하고 있습니다. 혁신적인 Twin Chamber^® 아키텍처는 최대 6개의 웨이퍼를 동시에 처리하여 생산성을 더욱 높입니다. Producer는 세라믹 히터 및 챔버 구성품, 그리고 챔버 세정을 위한 원격 플라스마 소스를 바탕으로 CVD 박막에 있어 최저 결함률을 구현합니다. 또한 loadlock 웨이퍼 매핑부터 명확한 웨이퍼 정렬, 웨이퍼 배치에 이르기까지 다양한MtM 기판 (SiC 웨이퍼 포함)을 안정적이고 섬세하게 처리할 수 있습니다.