Applied Producer^® XP Precision^® Draco^™ CVD

今日のグローバルなデジタル革命は、特にデータセンターのサーバ向けの低コストで高密度なDRAM需要を牽引しています。しかし、物理的な設計上の制約により、DRAMの微細化はAI、5G、IoT、その他のデータ集約型コンピューティングアプリケーションと共に急増するメモリ需要に対応できなくなっています。

Producer XP Precision Dracoハードマスク は、重要な制約の1つであるDRAMのストレージキャパシタの微細化に対応します。

キャパシタは、直径30nmの非常に小さい構造です。その静電容量は体積に比例します。そのため、微細化によりキャパシタ孔の径が小さくなると、静電容量を確保するためにアスペクト比が増大します。しかし、これまで以上に深いキャパシタ孔をエッチングする高エネルギーイオンは同時にハードマスクもエッチングします。アスペクト比が高いほど、キャパシタ孔が完全に形成される前にハードマスクがエッチングされて、デバイスが破損するリスクが高くなります。

Dracoハードマスクは、従来のDRAMキャパシタ用ハードマスク材料に比べ、エッチング選択性が30％以上高い新材料で、この課題を解決します。これにより、ハードマスクの堆積膜厚を30％薄くすることが可能になり、キャパシタのアスペクト比を低減し、エッチングプロセスの難度を軽減します。

Dracoハードマスクは、アプライド マテリアルズのエッチング装置Centris Sym3 Yと協調最適化されています。この装置は、新材料Dracoのエッチング向けに特別に適合されたもので、局所的なCDの均一性が50％向上し、ブリッジ欠陥（短絡）を100分の１に減少することで、歩留まりが向上します。