维利安 VIISta^™ PLAD

维利安 VIISta PLAD™ 等离子式、超高剂量注入技术提供经生产验证的可靠方法，采用低能量工艺（不会干扰敏感的电路特征），在整个晶圆表面快速注入高浓度掺杂物。

该系统的剂量保留率和均匀度领先业界，且关键性功能可带来如下优势：

• 高密度、低能量等离子可实现高生产效率，而不会腐蚀或损伤衬底
• 先进 RF 技术有助进行独特的沉积控制
• 脉冲直流偏压可提供准确的能量、深度和剂量控制，且具有较宽的工艺容许范围
• 可变占空系数可提高工艺灵活性
• 闭回路法拉第（faraday）通过原位剂量控制将量产风险降至最低

VIISta PLAD™ 技术部署在与其他维利安注入系统通用的 VIISta 平台之上。这种通用性有助缩短第一次硅晶的时间，有助于提升所有应用的生产效率。