Centura Sculpta 圖案化成形系統

Applied Centura^™ Sculpta^™ 圖案化系統為圖案成形提供了突破性的創新工具，能夠精準、單向修改晶圓上線寬尺寸，提升 EUV 圖案化技術效能。Sculpta 主要用於先進邏輯節點中的最關鍵圖案化層。該系統可降低圖案化方案的複雜性，實現晶片功率、效能、單位面積、成本和上市時間(PPACt™) 各項優勢 ​–​ 為圖案化工程師的工具箱添加一項很有價值的工具。