HawkEye 광학 검사

칩 구조가 점점 더 작아지고 공정이 복잡해짐에 따라 효과적인 공정 제어를 위해 더 많은 검사 단계가 필요합니다. 동시에 팹은 비용을 관리해야 하므로 총 검사 비용을 최적화하는 접근 방식을 도입해야 합니다. 비용 효율적인 수율모니터링 및 제어를 위해서는 명시야와 암시야 광학 검사 기술을 혼합하여 사용하는 것이 핵심입니다. 궁극적인 목표는 전체 중요 공정 단계에서 모든 주요 결함 유형을 감지해 팹이 개발 초기에 문제를 식별하고 수정하여 웨이퍼 수율과 신뢰성을 높인 양산으로 전환할 수 있도록 하는 것입니다.

HawkEye^™ 광학 검사 시스템은 식각, CMP, 증착, 리소그래피, 이온 주입 및 다양한 맞춤형 공정 모듈 후 패턴 웨이퍼에 미세먼지, 패턴 결함, 스크래치, 험프를 포함한 암시야 결함이 있는지 검사하는 데 사용됩니다. 심자외선(DUV) 레이저 소스는 2nm 이하의 메모리 및 로직 칩의 핀, 게이트-올-어라운드(GAA) 레이어, 인터커넥트 레이어를 스캔할 때 고감도 및 높은 처리량을 제공하며 IoT, 통신, 자동차, 전력 및 센서 등 ICAPS에 사용되는 광범위한 디바이스를 스캔할 수 있습니다. HawkEye 광학 시스템의 낮은 소유 비용은 전체 검사 비용을 낮추는 동시에 더 많은 검사 지점을 허용하여 수율과 신뢰성을 높이는 데 도움이 됩니다.

HawkEye 광학 시스템은 검사 처리량을 극대화하고 패턴화된 전공정, 중간공정, 후공정의 모든 표면 결함을 감지하도록 설계되었습니다 . 이 시스템은 어플라이드 머티어리얼즈의 Enlight^™ 명시야 광학 검사 시스템을 보완하여 팹이 포괄적인 명시야 및 암시야 검사 전략을 추구할 수 있도록 합니다.