Producer^® Darc^® PECVD

應用材料 Producer DARC PECVD 是行業領先的抗反射塗層薄膜，可以降低反射、減少光阻劑中毒，並提高 90 奈米或以下技術的光阻劑附著力。

APF/DARC 薄膜堆疊層與應用材料 APF™ (先進圖案化薄膜) 可剝離的 CVD 硬掩膜結合使用時，提供了可改善蝕刻選擇性、臨界線寬控制和刻線邊緣粗糙度等具備微影功能的解決方案。應用材料 Producer DARC PECVD 在多種應用中提供了無與倫比的反射率控制，具有折射率和消光係數值的寬廣調諧範圍。這些薄膜可與其他 CVD 介電質同時整合，讓業者提高效率和降低成本。

DARC 193 廣泛用於傳統的閘極、多晶矽和鋁導電層微影等應用，具備粘附低介電質薄膜的優異特性，特別適合雙鑲嵌導電層方案。