AKT^™-PiVot^™ 25PX PVD

AKT-PiVot 25KPX PVD设备可在六代线(1500毫米x1800毫米)基板上沉积氧化铟锡(ITO)、氧化铟镓锌(IGZO)和金属等薄膜晶体管的关键膜层和连接部分，适用于LTPS/LTPO移动设备。集群理念可实现快速单位时间(Tact time)、高产率、充分备用流程模块，并采用已得到长期验证的旋转靶材设计结合独特的微粒控制技术降低缺陷率。

氧化铟镓锌物理气相沉积(IGZO PVD)腔室已升级(PiVot 25KS)，助力生产适用于下一代移动设备的mura-free LTPO面板。