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AKT-PiVot 25KPX PVD システムは、TFTや接続層を作成する非常に重要なフィルム層であるIGZO、ITOおよび金属膜を成膜する、第6世代(1500x1850 mm²)のLTPS/LTPOモバイル市場に特化した装置です。独自のパーティクル制御と実証されたロータリー・ターゲット技術を採用し、欠陥の生成を抑え、クラスタ・コンセプトにより、高い生産性と早いタクトタイム、プロセス・モジュール間の全冗長を可能にします。
IGZOスパッタリングでは、プロセスチャンバーの構造を改良し(PiVot 25KS)、次世代のモバイル機器を可能にするムラのないLTPOデバイスの製造を実現しました。