アモルファス・シリコン

最も一般的な半導体層は、アモルファスシリコン（a-Si）で作られています。アモルファスシリコン薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ（TFT-LCD）が、アクティブマトリクス方式TFT-LCDの製造において、20年以上の間、主要テクノロジーとなっています。アモルファスシリコンは、供給が豊富な低コスト材料です。

アモルファスシリコンは、供給が豊富な低コスト材料です。しかし、アモルファスシリコンの電子移動度は非常に低く（約1cm2/vs）、HDTVに必要な240Hzのような高いリフレッシュレートを物理的にサポートすることはできません。現在主流となっている、液晶ディスプレイと有機EL（OLED）ディスプレイの2種類のスクリーンの製造には、その高い電子移動性により、酸化物半導体（MO）や低温ポリシリコン（LTPS）などの新素材がアモルファスシリコンに置き換わっています。