포토마스크

포토마스크는 집적 회로 패턴을 포함하고 있습니다. 또한 트랜지스터가 점점 작아짐에 따라 패턴을 실리콘 웨이퍼에 정확히 전달하기 위해 포토마스크 패턴이 더 복잡해졌습니다. 포토마스크의 사소한 결함 하나라도 실리콘 디바이스 성능에 영향을 미칠 수 있으며 그에 따라 포토마스크 제조 공정 기술은 더 발전하게 되었습니다. 포토마스크 패턴이 정확하고 결함이 없는지 검증하는 일은 매출 수익이 높은 칩의 경우 더욱 중요합니다.

포토마스크는 일반적으로 6인치(약 152mm) 정사각형 모양의 용융 실리카(쿼츠) 기판으로서 리소그래피 공정에서 웨이퍼에 투영되어 직접 회로의 레이아웃 한 층을 형성하는 불투명, 투명 및 위상 반전 영역의 패턴으로 덮여 있습니다.수많은 연속 패턴은 후속 패터닝 단계에서 웨이퍼에 물질을 증착하거나 제거하는 가이드 역할을 합니다(여기를 클릭하여 패터닝에 대한 자세한 내용을 확인하세요).

포토마스크는 어플라이드에서 비중이 확대되고 있는 분야입니다. 모바일, 자동차, 사물인터넷 애플리케이션의 대량 생산을 위한 포토마스크의 수요 증가에 대응하기 위해, 어플라이드의 시스템은 포토마스크 제조 공정의 중요한 부분을 해결합니다.