Centura^® Ultima HDP CVD^®

어플라이드 Centura Ultima HDP CVD 200mm및 300mm시스템은 고밀도 플라즈마 CVD 공정을 제공합니다. 이 시스템은 최상급의 유전체 필름과 공극없는 갭필(gapfill)을 구현하며 반도체 생산 산업을 선도해 왔습니다. 해당 시스템의 리액터를 통해 다세대 제조에서 요구되는 생산성, 비용 효율성, 확장성을 고객에게 제공해 왔습니다.

Ultima HDP 시스템은 웨이퍼의 탁월한 갭필 기능을 위한 듀얼 RF 코일(coil)을 갖추고 있습니다. 혁신적인 정전 척 (electrostatic chuck) 은 탁월한 필름 품질과 균일성을 제공하며, 원격 플라즈마 세정 기능을 결합하여 탁월한 결함 및 평균-웨이퍼 간 성능을 제공합니다.

이 제춤의 최신 공정 기술을 통해 STI, PMD, ILD, IMD, 페시베이션(passivation) 등의 다양한 애플리케이션에 무도핑 필름과 도핑 필름을 모두 증착할 수 있습니다. 다용성은 개선된 필름 품질을 위해 에치백(etchback) 및 고밀도 플라즈마 처리까지 확장됩니다.