Aera 6 마스크 검사

어플라이드 Aera^™ 6 마스크 검사 시스템은 마스크 패턴이 CCD에 그대로 전사되는 true aerial imaging과 최첨단 고해상도 이미징을 차별화된 방식으로 결합한 6세대 193nm 기반 검사 장비입니다.

새로운 리소그래피 grade의 렌즈와 double CCD 시스템을 장착한 Aera6는표준 고해상도 애플리케이션 뿐만 아니라 마스크 패턴이 CCD에 그대로 전사되는 aerial inspection에서 향상된 처리량을 갖는 높은 신호 대 잡음비 성능을 보여 줍니다. 이러한 기능 덕분에 역리소그래피 및 EUV 마스크 검사와 같은 공격적인 광학 근접 보정 기능을 갖춘 디바이스 노드를 포함하여 메모리 및 로직의 최첨단 디바이스 노드에 적합한 툴입니다. 이 시스템은 첨단 마스크에 대한 오 경보율을 매우 낮은 수준으로 유지하면서 더블/쿼드러플 패터닝 웨이퍼 리소그래피에 요구되는 고도의 정밀 마스크 검사를 수행합니다.

리소그래피 스캐너를 모방하도록 설계된 Aera 6 시스템은 고급 마스크를 갖춘 다른 고해상도 검사 시스템보다 높은 검사 성공률을 제공합니다. 이 시스템은 인쇄 또는 비인쇄로 결함을 자동으로 분류하는 고유의 기능과 고급 AI 알고리즘 솔루션에 집중함으로써 마스크 제조업체가 차세대 디바이스 노드로 ArF 기술을 확장할 수 있도록 지원합니다.

Aera 6 시스템은 마스크 제작과 팹의 마스크 검사 기능을 확장하여 마스크 수명을 연장하고 마스크 관련 비용을 절감합니다.  이러한 기능에는 조기 헤이즈 감지, 완벽한 193nm 및 EUV 노출 저하 모니터링, 가장자리 전위 결함에 대한 2.5nm 해상도 검토, IntenCD 시스템을 사용한 전체 마스크 critical dimension(CD) 균일도 매핑이 포함됩니다.^™ 시스템을 사용합니다.