Applied Producer XP Precision Pioneer CVD

ロジックおよびDRAM（ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ）デバイスは、データセンター、AI、モバイル機器など、より複雑な計算と、より大きなデータセットを処理するための大容量メモリを必要とするさまざまなアプリケーションにおいて、コンピューティングおよびメモリ性能に対する需要が高まっています。 しかし、トランジスタの微細化により、プロセスのばらつきの影響を受けやすくなり、デバイス性能のばらつきや信頼性の低下を招く可能性があります。DRAMのスケーリングには物理的な限界があり、その主な理由は、性能と信頼性を維持しながらメモリセルを縮小することが難しくなっているためです。

Applied Producer^® XP Precision® Pioneer^® CVDハードマスクは、より堅牢で一貫性のあるパターニングプロセスを提供することにより、半導体製造におけるプロセスのばらつきを低減します。 Pioneerはエッチングの選択性を向上させ、パターン転写を強化することで、プロセスのばらつきを低減します。

先進のパターニングCVDフィルムPioneerは、独自の高密度カーボン配合をベースとしており、最先端のプロセスノードで使用されるエッチングケミカルに強く、優れた側壁形状均一性を持つ薄膜スタックを可能にします。このフィルムは、フォトレジスト・パターンニング工程の前にウェーハ上に蒸着され、所望のパターンを極めて忠実にウェーハに転写するように独自に設計されています。

Pioneerはアプライド マテリアルズのパターン形成技術Sculpta™と協調最適化されており、パターニングエンジニアはオリジナルのEUVパターンを厳密に制御しながら、パターン延長を最大化することができます。

PioneerはSym3^™ Y Magnum^™エッチシステムとも協調最適化されており、ロジックやメモリー処理における重要なエッチング用途において、従来のカーボン膜よりも高い選択性と優れた制御性を提供します。