AKT^®-PECVD 系統

業界領先的應用材料 AKT-PECVD 平台可在用來製造液晶顯示 (LCD) 面板的大面積玻璃基板上沉積絕緣薄膜。實際上，韓國、中國、台灣和日本每一家主要的薄膜電晶體液晶顯示器 (TFT-LCD) 製造商都在使用應用材料的電漿輔助化學氣相沉積 (PECVD) 系統。

AKT-PECVD 系統支持非晶矽 (a-Si) 和金屬氧化物 (MOx) 背板技術，可使用的薄膜包括摻雜及無摻雜非晶矽 (a-Si)、氧化矽 (SiOx)、氮氧化矽 (SiON)、氮化矽 (SiN)，並且可以同步進行多層沉積鍍膜。

應用材料先進的 PECVD 技術提供了一條快速且符合成本效益的途徑，可將金屬氧化物電晶體技術推向市場；這是一種用於製造次世代超高解析度顯示器的新興技術。應用材料的 PECVD 氧化矽薄膜可為金屬氧化物電晶體提供一層介電質層介面，將氫雜質含量降低到最低程度，進而提高電晶體的長期穩定性並優化螢幕性能。

製程反應室專利技術使 AKT-PECVD 系統能夠取得卓越的薄膜均勻度和電性，支持從 ² 代線 (0.2m²) 到 11 代線 (9.9m²) 顯示器行業所有世代線的玻璃尺寸。