Applied Centura^™ Sculpta^™ 패터닝 시스템은 웨이퍼 상에서 패턴의 크기를 정확하게 한방향으로만 수정함으로써, EUV 패터닝 성능을 향상하는 획기적인 패터닝 기능을 구현합니다.  Sculpta는 고급 로직 노드에서 가장 집적도가 높은 패터닝 레이어를 위한 시스템입니다. Sculpta 시스템을 사용하면 패터닝 체계의 복잡성을 줄여 전력 효율, 성능, 면적, 비용 및 시장 출시 기간(PPACt™)을 개선할 수 있으므로, 패터닝 엔지니어에게 없어서는 안 되는 유용한 도구입니다.