VeritySEM^® 6D Critical Dimension (CD) Metrology

私たちが日々使う製品や私たちを取り巻く世界が年々スマート化する中、半導体チップとこれに使われる絶縁材料に対する需要が高まっています。誘電材料は電気絶縁性が高いほか蓄電性も備えているため、コンデンサやメモリセルに使われます。半導体分野でよく用いられる誘電体の1つにガラスがあります。ガラスは誘電損失が少なく、熱的安定性、硬度、透明度が優れています。ガラスは光インターコネクトでの利用が広がっており、VR（仮想現実）／AR（拡張現実）、　MEMS、CMOSイメージセンサ、メモリ、ロジック、RF、パワーエレクトロニクス、FOWLP（ファンアウトウェーハレベルパッケージング）など多くのアプリケーションにおいてガラスの高い透明性が光信号の伝達に適しています。

絶縁体の量産には、プロセス制御面での課題が伴います。絶縁構造や絶縁膜には、製造過程において不必要な電荷がかかりやすく、シリコンウェーハよりも取り扱いに注意が必要となります。絶縁膜は各種サイズのウェーハに、厚さ、透明性、導電性などもそれぞれ異なって成膜され、2D構造と3D構造が混在する場合もあります。パターンサイズも0.1umから100um超まで各種あり、デバイスの性能を確保するにはプロセスのばらつきを厳密に抑制する必要があります。そこで充実したウェーハ搬送および計測機能を持つCD-SEM（測長走査型電子顕微鏡）を絶縁体向けにカスタマイズし、さまざまな精度の計測とプロセス制御のニーズに対応させたものが求められます。

現在世界中のほとんどの半導体メーカーで使用されているVeritySEM 6iの拡張モデルにあたるCD計測装置Applied VeritySEM 6Dは、ガラスやサファイアなどの絶縁材料、化合物半導体、従来型シリコンなどに向けた先進的な計測とプロセス制御を可能にします。自動ウェーハ搬送システムは6、8、12インチのウェーハ径に自動対応し、さらにウェーハ厚やワープその他電気・物理特性のばらつきにも対応できます。また、VeritySEM 6Dは高い解像度と検出効率でスループットを最大化するほか、先進的な自動化と業界屈指のフリートマッチング精度により、装置オペレータが事実上不要となります。高精度仕様のVeritySEM 6Dは、最先端の3DおよびHAR（高アスペクト比）パターン測定を可能にし、パワーデバイス向けの縦型構造のトランジスタをはじめ、各種デバイス構造のニーズに応えます。