Pika^™ PVD

应用材料公司的 Pika PVD 系统是当今业界体积更小、速度更快的单晶圆 PVD 设备，设计用于以较低的拥有成本开展高性能研发和小批量生产。该系统设计紧凑 (1657mm x 755mm x 1822mm)，包含脱气、预清洁和溅射沉积模块，并配备高真空机械手传送室和完整的盒对盒自动化功能。它具有很高的可靠性，正常运行时间超过 92％。

该设备支持选择各种 PVD 溅射源，包括直流电、脉冲直流电、射频溅射，其金属或反应性溅射工艺能够共溅射金属和氧化物的合金。D 源磁控管技术的工艺流程经过验证，可在硅、玻璃、有机材料、金属和砷化镓或其他 III-V 化合物的衬底上沉积各种单层膜和多层膜。Pika 系统的即插即用设计可最大程度地减少设置时间。