Applied^® Sigmameltec^® CTS Mask Coat Series

要达到世界一流水准的光掩膜 CD 均匀度，首先就要确保高质量的光刻胶涂布。在纳米级应用中，很多细微的因素变得重要，包括腔室空气的纯度、温度和湿度，掩模表面的预处理，光刻胶分配和旋涂特性，以及涂胶后烘焙形貌控制。

Sigmameltec 的 CTS 系统提供可控的环境，可用于生成具有可重复特性和超低缺陷水平的高品质光刻胶层。掩模基底的预处理可确保能够形成具有良好附着力的洁净表面，严格控制的光刻胶分配与旋涂程序，可在 1 nm (3s) 级别上确保镀膜的均匀度。镀膜腔配备适用于三种光刻胶类型的分配臂，还可以选装更多的分配臂。自动溶剂冲洗工艺可确保镀膜环境保持一致的洁净度。