AKT^®-PECVD アモルファスシリコン用装置

業界をリードするAKTプラズマCVDプラットフォームは、液晶ディスプレイ（LCD）画面の製造のため、大型ガラス基板に絶縁膜を成膜します。アプライド マテリアルズのプラズマCVD装置は、韓国、中国、台湾、および日本の、ほぼすべての主要な薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ（TFT-LCD）メーカーによって使用されています。

AKT-PECVDシステムは、アモルファスシリコン（a-Si）と酸化物半導体（MOx）の両方のバックプレーン技術向けのプロセスを提供し、ドープ/アンドープ膜a-Si）、酸化ケイ素膜（SiOx）、酸化窒化ケイ素（SiON）膜、窒化ケイ素膜（SiN）、およびin-situ多層成膜などの成膜が可能です。

アプライドの先進的なプラズマCVD技術により、次世代の超高解像度ディスプレイを製造するための新たな技術である酸化物半導体トランジスタ技術を、迅速で安価に市場に提供することができます。アプライドのプラズマCVDによるシリコン酸化膜は、酸化物半導体トランジスタ用に、水素不純物を最小化し、トランジスタ安定性を改善し、スクリーン性能を最適化する絶縁膜層を提供します。

独自のプロセスチャンバ技術により、AKT-PECVDシステムは、第2世代（0.2m²） から第11世代（9.9m²） まで、ディスプレイ業界で使用される様々なガラスサイズに対応し、優れた膜均一性や電気特性を実現しています。